文章摘要: 真空鍍膜加工的特色,真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),采用物理或化學(xué)方法,吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)的新技術(shù)。(1)薄膜和基底材料挑選廣泛,薄膜厚度可控,真空鍍膜加工可制備各種
真空鍍膜加工的特色,真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ),采用物理或化學(xué)方法,吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)的新技術(shù)。
(1)薄膜和基底材料挑選廣泛,薄膜厚度可控,真空鍍膜加工可制備各種功能的功能薄膜。
(2)薄膜在真空中制備,環(huán)境清理,不易被污染,真空鍍膜加工可以獲得致密性好、純度高、涂層均勻的薄膜。
(3)薄膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度好,薄膜堅(jiān)固。
(4)干涂不產(chǎn)生廢液或環(huán)境污染。
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眾所周知,有些材料只要在表層鍍上一層薄膜,就能擁有許多新的、良好的物理化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表層進(jìn)行涂覆的主要方法是電鍍和化學(xué)鍍。前者通過(guò)通電電解電解液,電解出的離子鍍?cè)诨灞韺幼鳛榱硪粋€(gè)電極。因此,基底須是良好的電導(dǎo)體,并且薄膜厚度難以控制。后者是化學(xué)還原法,須將膜材料配制成溶液,并能快速參與還原反應(yīng)。這種涂布方法不僅膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且涂布不均勻,不易控制。同時(shí)會(huì)產(chǎn)生大量廢液,造成嚴(yán)重污染。因此,這兩種被稱為濕法涂布的涂布工藝受到了很大的限制。
真空鍍膜加工是相對(duì)于上述濕法鍍膜而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技術(shù),通常真空鍍膜加工稱為干法鍍膜技術(shù)。
真空鍍膜加工的特色
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