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MPCVD設(shè)備的主要構(gòu)成

發(fā)布時間:2023-05-08 22:29:07 來源:互聯(lián)網(wǎng) 分類:工業(yè)機械知識

文章摘要: ?MPCVD設(shè)備主要可分為四個部分,分別為微波系統(tǒng)、供氣和真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)及相關(guān)控制系統(tǒng)。微波系統(tǒng)是MPCVD設(shè)備運行的能量來源,是整個設(shè)備的核心組成部分,其穩(wěn)定的運行是制備高質(zhì)量金剛石的重要前提。微波系統(tǒng)通常由以下幾個部分組成:微波產(chǎn)生裝置、微波

?MPCVD設(shè)備主要可分為四個部分,分別為微波系統(tǒng)、供氣和真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)及相關(guān)控制系統(tǒng)。

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微波系統(tǒng)是MPCVD設(shè)備運行的能量來源,是整個設(shè)備的核心組成部分,其穩(wěn)定的運行是制備高質(zhì)量金剛石的重要前提。微波系統(tǒng)通常由以下幾個部分組成:微波產(chǎn)生裝置、微波傳輸系統(tǒng)、微波調(diào)節(jié)系統(tǒng)和保護系統(tǒng)。其基本原理在于在恒定正交的電磁場作用下,微波產(chǎn)生裝置中的磁控管的內(nèi)部電子與高頻電磁場發(fā)生相互作用,把從恒定電場中獲得的能量轉(zhuǎn)化成微波能量,從而達到產(chǎn)生微波的目的。


供氣和真空系統(tǒng)是MPCVD設(shè)備核心部分,設(shè)備的真空性能是一個非常重要的工藝參數(shù),越高的真空性能意味著更好的沉積環(huán)境和更好的沉積質(zhì)量。通常條件下MPCVD設(shè)備的真空系統(tǒng)有以下三個部分組成:進氣管道、真空腔、抽氣系統(tǒng)。在進行金剛石生長之前,每個環(huán)節(jié)的真空性能需要得到保障。


水冷系統(tǒng)主要用于控制金剛石生長的環(huán)境溫度,高功率的微波具有高的的能量,在MPCVD設(shè)備整個運行的過程當(dāng)中,這些能量絕大部分將以熱能的形式散發(fā)出去,為保護設(shè)備長時間穩(wěn)定的運行,水冷系統(tǒng)必不可少。在MPCVD設(shè)備中,水冷系統(tǒng)可有效下降反應(yīng)腔體和基片臺的溫度,使金剛石生長維持在一定的溫度范圍內(nèi)。


相關(guān)控制系統(tǒng)主要用于控制在生長環(huán)節(jié)中的各個生長參數(shù),如基片臺高度、反應(yīng)氣體配比、抽破真空操作、微波功率調(diào)整及反應(yīng)環(huán)境溫度調(diào)整等,控制系統(tǒng)在金剛石生長工藝中至關(guān)重要。


MPCVD設(shè)備的主要構(gòu)成

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