pvd鍍膜機的幾種鍍膜方法

　　真空鍍膜技術，簡單來說就是利用蒸發(fā)、濺射等手段發(fā)射出涂層顆粒，沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導體、塑料零件等物體上，形成涂層。pvd鍍膜機主要方法包括以下幾種:

　　pvd鍍膜機真空蒸發(fā)

　　原理是在真空條件下，薄膜材料被蒸發(fā)器加熱使其氣化或升華，蒸發(fā)的粒子流直接向基底，固體薄膜沉積在基底上。

　　pvd鍍膜機濺射涂膜

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　　濺射鍍膜是在真空條件下，向陰極施加高電壓激發(fā)輝光放電，帶正電荷的氬離子撞擊陰極靶，使其噴射出薄膜顆粒，沉積在基底上形成膜層。

　　pvd鍍膜機離子電鍍法

　　離子鍍通常是指在鍍覆過程當中產生大量離子的鍍覆方法。在pvd鍍膜機成膜的過程當中，襯底一直受到高能粒子的轟擊，膜的強度和結合力都很強。

　　真空卷繞涂層

　　真空鍍膜是通過各種鍍膜方法在成卷的柔性薄膜表層進行連續(xù)鍍膜的技術，以實現(xiàn)柔性基材的某些特殊功能和裝飾性能。

　　為了使光學零件滿足光電儀器和元件中所要求的光學、電學和物理性能，可以在其表層鍍一層、多層甚至上百層薄膜。如減反射膜、反射膜、分光膜、濾光膜、電熱膜、保護膜、偏光膜等。光學零件的涂層主要分為物理涂層和化學涂層。隨著真空技術和薄膜監(jiān)控技術的發(fā)展，很容易獲得性能穩(wěn)定、結構復雜的薄膜。因此，真空鍍膜是生產中的主要方法。

　　按薄膜性能分類，普遍的膜層有:增透膜、反射膜、分光膜、濾光膜、電熱膜、導電膜、保護膜等。

　　根據(jù)膜的結構，可分為單層膜、雙層膜和多層膜。

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